Skip to main content
Main Menu
  • 产品
    Back
    产品
    • 涂料
    • 可加工陶瓷
    • Powder Solutions
    • PDS产品
  • 应用
    Back
    应用
    • 熔融金属接触部件
    • PVD、CVD和等离子系统用绝缘体
    • 高温炉用炉具和绝缘体
    • 高频电介质
    • 高温润滑和脱模
    • 电子器件散热解决方案
    • 导热塑料用散热填料
    • 彩色化妆品和护肤品用填料
    • 硅掺杂用扩散源
  • 联系我们
  • 资源中心
    Back
    资源中心
    • 文档中心
    • 关于我们
    • Blog & Events
  • 博客
  • 市场
  • 常见问题解答
  • 技术解决方案
world SAINT-GOBAIN
Logo Saint-Gobain Boron Nitride
  • 产品
    • 涂料
    • 可加工陶瓷
    • Powder Solutions
    • PDS产品
  • 应用
    • 熔融金属接触部件
    • PVD、CVD和等离子系统用绝缘体
    • 高温炉用炉具和绝缘体
    • 高频电介质
    • 高温润滑和脱模
    • 电子器件散热解决方案
    • 导热塑料用散热填料
    • 彩色化妆品和护肤品用填料
    • 硅掺杂用扩散源
  • 联系我们
  • 资源中心
    • 文档中心
    • 关于我们
    • Blog & Events
  • 博客
  • 市场
  • 常见问题解答
  • 技术解决方案

You are here

  1. 首页
  2. 应用
  3. Diffusion Sources for Silicon Doping

硅掺杂用扩散源 | 圣戈班氮化硼

硅掺杂用扩散源

PDS ®产品P型(氮化硼)和N型(硅磷酸盐)均可用作硅晶片低成本、原位且无毒的扩散源。 PDS ®产品让产量与均匀性之间的取舍再无必要。

硅掺杂用PDS产品 | 圣戈班氮化硼

各产品的PDS ®产品均可提供最大200毫米直径规格。使用PDS ®产品可让用户能够很少或不改变扩散过程的情况下改变扩散源直径。  此外,圣戈班先进陶瓷氮化硼还可凭借40多年的扩散技术经验提供无与伦比的技术指导。

特点与优点扩散载体 | 圣戈班氮化硼

  • 可用于多种设备结构的极高灵活性,由此可消除设备转换产生的资本支出。
  • 提高跨批次以及批次间晶片的产量和一致性。
  • 通过扩散管气氛的受控引入实现可预测性和可重复性的精确化学原理。
  • H 2注入可调节P型B 2 O 3 -HBO 2系统的分蒸气压,在实现出色均匀性的同时控制低温工艺的缺陷问题。
  • 无毒源,使用安全。

 

主要应用

  • 发射极
  • 基区
  • 集电极
  • 通道阻绝层
  • 隔离
  • 保护环
  • 电阻
  • 电容
  • 太阳能电池
  • 源极/漏极
  • 沟槽结构

设备

  • 功率晶体管和模块
  • 小信号或开关晶体管
  • 二极管、整流器和晶闸管
  • 射频/微波晶体管
  • 放大器
  • 变压器
  • 变送器(传感器和探测器)
扩散源,应用 | 圣戈班氮化硼

 

相关产品及技术解决方案

  • PDS 产品
  • 氮化硼

    圣戈班氮化硼是圣戈班陶瓷材料旗下业务

     

    我们通过的认证

    • ISO 14001 认证
    • ISO 9001 认证

    菜单

    涂料
    可加工陶瓷
    PDS产品
    粉末
    应用
    技术方案
    文档中心
    法律声明
    网站地图

     

     

      联系我们

     

    ©版权所有Saint-Gobain 2018。 保留所有权利。